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文献
J-GLOBAL ID:201102206178599590   整理番号:11A0857487

(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル・プラチナとO2プラスマを用いたAl2O3基板上のPt原子層堆積の核生成と成長

Nucleation and growth of Pt atomic layer deposition on Al2O3 substrates using (methylcyclopentadienyl)-trimethyl platinum and O2 plasma
著者 (8件):
BAKER L.
(Dep. of Chemistry and Biochemistry and Dep. of Chemical and Biological Engineering, Univ. of Colorado, Boulder ...)
CAVANAGH A. S.
(Dep. of Chemistry and Biochemistry and Dep. of Chemical and Biological Engineering, Univ. of Colorado, Boulder ...)
SEGHETE D.
(Dep. of Chemistry and Biochemistry and Dep. of Chemical and Biological Engineering, Univ. of Colorado, Boulder ...)
GEORGE S. M.
(Dep. of Chemistry and Biochemistry and Dep. of Chemical and Biological Engineering, Univ. of Colorado, Boulder ...)
MACKUS A. J. M.
(Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
KESSELS W. M. M.
(Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
LIU Z. Y.
(General Motors Res. and Dev., Honeoye Falls, New York 14472, USA)
WAGNER F. T.
(General Motors Res. and Dev., Honeoye Falls, New York 14472, USA)

資料名:
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

巻: 109  号:ページ: 084333  発行年: 2011年04月15日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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