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文献
J-GLOBAL ID：201102206221078141
整理番号：11A1454690
超音波/メガソニックを用いた基板洗浄
Substrate Cleaning using Ultrasonics/Megasonics
KAZEMI Mohammad
(Xyratex International Inc, California)
,
TREICHEL Helmuth
(Xyratex International Inc, California)
,
LIGUTOM Rito
(Xyratex International Inc, California)
資料名：
IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
(IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop)
巻： 22nd ページ： 146-151 発行年： 2011年
JST資料番号： W0718A ISSN： 1078-8743 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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