文献
J-GLOBAL ID:201102208031855330
整理番号:11A0306281
CD均一性向上による45nm技術不揮発性メモリに対するプロセスウィンドウの改善
Process Window improvement on 45nm technology Non Volatile Memory by CD uniformity improvement
著者 (6件):
BUTTGEREIT Ute
(Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU)
,
BIRKNER Robert
(Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU)
,
GRAITZER Erez
(Carl Zeiss SMS, Karmiel, ISR)
,
COHEN Avi
(Carl Zeiss SMS, Karmiel, ISR)
,
TRIULZI Benedetta
(Numonyx Italy S.r.l, Agrate Brianza (MI), ITA)
,
ROMEO Carmelo
(Numonyx Italy S.r.l, Agrate Brianza (MI), ITA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7823
号:
Pt.1
ページ:
78230C.1-78230C.9
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)