文献
J-GLOBAL ID:201102209799854364
整理番号:11A1474696
酸化ハフニウム薄膜の強誘電性
Ferroelectricity in hafnium oxide thin films
著者 (5件):
BOESCKE T. S.
(Loeberwallgraben 2, 99096 Erfurt, DEU)
,
MUELLER J.
(Fraunhofer CNT, 01099 Dresden, DEU)
,
BRAEUHAUS D.
(RWTH Aachen, Inst. fuer Werkstoffe der Elektrotechnik, 52062 Aachen, DEU)
,
SCHROEDER U.
(Namlab gGmbH, 01187 Dresden, DEU)
,
BOETTGER U.
(RWTH Aachen, Inst. fuer Werkstoffe der Elektrotechnik, 52062 Aachen, DEU)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
99
号:
10
ページ:
102903
発行年:
2011年09月05日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)