文献
J-GLOBAL ID:201102214720725592
整理番号:11A0467147
AZnLOF2020における電子線ナノリソグラフィ
Electron beam nanolithography in AZnLOF 2020
著者 (9件):
HERTH E.
(Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA)
,
TILMANT P.
(Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA)
,
FAUCHER M.
(Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA)
,
FRANOIS M.
(Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA)
,
BOYAVAL C.
(Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA)
,
VAURETTE F.
(Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA)
,
DEBLOCQ Y.
(Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA)
,
LEGRAND B.
(Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA)
,
BUCHAILLOT L.
(Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
87
号:
11
ページ:
2057-2060
発行年:
2010年
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)