文献
J-GLOBAL ID:201102215610764688
整理番号:11A0791568
ZEP520Aの低温現像による解像度の増大と溝幅に関するシミュレーション
Enhanced resolution and groove-width simulation in cold development of ZEP520A
著者 (7件):
OKADA Takeru
(Nanoprocess Business Dev. Dep., Pioneer Corp., 2-70-1 Hayashi, Tokorozawa, Saitama 3591167, JPN)
,
FUJIMORI Jiro
(Nanoprocess Business Dev. Dep., Pioneer Corp., 2-70-1 Hayashi, Tokorozawa, Saitama 3591167, JPN)
,
AIDA Makoto
(Nanoprocess Business Dev. Dep., Pioneer Corp., 2-70-1 Hayashi, Tokorozawa, Saitama 3591167, JPN)
,
FUJIMURA Megumi
(Nanoprocess Business Dev. Dep., Pioneer Corp., 2-70-1 Hayashi, Tokorozawa, Saitama 3591167, JPN)
,
YOSHIZAWA Tatsuya
(Nanoprocess Business Dev. Dep., Pioneer Corp., 2-70-1 Hayashi, Tokorozawa, Saitama 3591167, JPN)
,
KATSUMURA Masahiro
(Nanoprocess Business Dev. Dep., Pioneer Corp., 2-70-1 Hayashi, Tokorozawa, Saitama 3591167, JPN)
,
IIDA Tetsuya
(Nanoprocess Business Dev. Dep., Pioneer Corp., 2-70-1 Hayashi, Tokorozawa, Saitama 3591167, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻:
29
号:
2
ページ:
021604
発行年:
2011年03月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
2166-2746
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)