文献
J-GLOBAL ID:201102215817531195
整理番号:11A0686907
異なる基板温度でr.f.マグネトロンスパッタリングにより堆積したナノ複合体炭窒化ケイ素薄膜のRaman研究
Raman studies on nanocomposite silicon carbonitride thin film deposited by r.f. magnetron sputtering at different substrate temperatures
著者 (2件):
BHATTACHARYYA Arnab Sankar
(National Metallurgical Lab., Jamshedpur, IND)
,
MISHRA Suman Kumari
(National Metallurgical Lab., Jamshedpur, IND)
資料名:
Journal of Raman Spectroscopy
(Journal of Raman Spectroscopy)
巻:
41
号:
10
ページ:
1234-1239
発行年:
2010年10月
JST資料番号:
D0305C
ISSN:
0377-0486
CODEN:
JRSPAF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)