前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：201102217012768000
整理番号：11A1249945
61nm自由電子レーザの使用による化学増幅極端紫外線レジストの反応機構に関する基本研究
Fundamental Study on Reaction Mechanisms in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists by Using 61nm Free-Electron Laser
OKAMOTO Kazumasa
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
OKAMOTO Kazumasa
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
KOZAWA Takahiro
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
KOZAWA Takahiro
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
HATSUI Takaki
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
TAJIMA Yasuharu
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
TAJIMA Yasuharu
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
OIKAWA Keita
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
NAGASONO Mitsuru
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
KAMESHIMA Takashi
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
TOGASHI Tadashi
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
TOGASHI Tadashi
(JASRI, Hyogo, JPN)
,
TONO Kensuke
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
YABASHI Makina
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
KIMURA Hiroaki
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
KIMURA Hiroaki
(JASRI, Hyogo, JPN)
,
SENBA Yasunori
(JASRI, Hyogo, JPN)
,
OHASHI Haruhiko
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
SUMIYOSHI Takashi
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 7972 号： Pt.1 ページ： 797217.1-797217.6 発行年： 2011年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。