文献
J-GLOBAL ID:201102219129189012
整理番号:11A0306278
マスク描画用の多型電子ビーム技術
Multi-Shaped E-Beam Technology for Mask Writing
著者 (9件):
GRAMSS Juergen
(Vistec Electron Beam GmbH Jena, DEU)
,
STOECKEL Arnd
(Vistec Electron Beam GmbH Jena, DEU)
,
WEIDENMUELLER Ulf
(Vistec Electron Beam GmbH Jena, DEU)
,
DOERING Hans-Joachim
(Vistec Electron Beam GmbH Jena, DEU)
,
BLOECKER Martin
(AMTC Dresden, DEU)
,
SCZYRBA Martin
(AMTC Dresden, DEU)
,
FINKEN Michael
(AMTC Dresden, DEU)
,
WANDEL Timo
(AMTC Dresden, DEU)
,
MELZER Detlef
(EQUIcon GmbH Jena, DEU)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7823
号:
Pt.1
ページ:
782309.1-782309.9
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)