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文献
J-GLOBAL ID：201102221720777076
整理番号：11A0124902
室温での化学気相蒸着により増強したプラズマにより成長した非晶性炭素窒化物の光学的,機械的,およびエッチング特性
Optical, mechanical and etch properties of amorphous carbon nitride films grown by plasma enhanced chemical vapor deposition at room temperature
KIM Sang Hoon
(School of Semiconductor and Chemical Engineering, Dept. of BIN Fusion Technol., BK21 Center for Future Energy ...)
,
CHOI Cheol Min
(School of Semiconductor and Chemical Engineering, Dept. of BIN Fusion Technol., BK21 Center for Future Energy ...)
,
LEE Kil Mok
(School of Semiconductor and Chemical Engineering, Dept. of BIN Fusion Technol., BK21 Center for Future Energy ...)
,
HAHN Yoon-bong
(School of Semiconductor and Chemical Engineering, Dept. of BIN Fusion Technol., BK21 Center for Future Energy ...)
資料名：
Synthetic Metals
(Synthetic Metals)
巻： 160 号： 23-24 ページ： 2442-2446 発行年： 2010年12月
JST資料番号： C0123B ISSN： 0379-6779 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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