文献
J-GLOBAL ID:201102225043629940
整理番号:11A1859231
X線・中性子小角散乱法によるCo-Pd-Si-Oナノグラニュラー膜の微細組織解析
著者 (4件):
大場洋次郎
(物質・材料研究機構)
,
大沼正人
(物質・材料研究機構)
,
大沼繁弘
(電磁研)
,
古坂道弘
(北大)
資料名:
日本金属学会講演概要(CD-ROM)
(Collected Abstracts of Spring Meeting of the Japan Institute Metals and Materials (CD-ROM))
巻:
149th
ページ:
ROMBUNNO.POSUTASESSHON,124
発行年:
2011年10月20日
JST資料番号:
S0988B
ISSN:
2433-3093
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)