文献
J-GLOBAL ID:201102226309807837
整理番号:11A0167744
垂直配向した多結晶シリコンおよび非晶質シリコンナノワイヤーのエッチング方向制限による金属触媒エッチング
Metal-Catalyzed Etching of Vertically Aligned Polysilicon and Amorphous Silicon Nanowire Arrays by Etching Direction Confinement
著者 (4件):
CHANG Shih-Wei
(Massachusetts Inst. Technol., MA, USA)
,
CHUANG Vivian P.
(Massachusetts Inst. Technol., MA, USA)
,
BOLES Steven T.
(Massachusetts Inst. Technol., MA, USA)
,
THOMPSON Carl V.
(Massachusetts Inst. Technol., MA, USA)
資料名:
Advanced Functional Materials
(Advanced Functional Materials)
巻:
20
号:
24
ページ:
4364-4370
発行年:
2010年12月21日
JST資料番号:
W1336A
ISSN:
1616-301X
CODEN:
AFMDC6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)