文献
J-GLOBAL ID:201102226410295448
整理番号:11A0862437
軟X線を用いるすれすれ入射小角散乱により調べたSi基板上のアニールされたブロック共重合体膜の表面に近い緩和構造
Near-surface relaxation structure of annealed block copolymer film on Si substrates examined by grazing-incidence small-angle scattering utilizing soft X-rays
著者 (5件):
OKUDA Hiroshi
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TAKESHITA Kohki
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
OCHIAI Shojiro
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
SAKURAI Shin-ichi
(Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)
,
KITAJIMA Yoshinori
(KEK, Tsukuba, JPN)
資料名:
Journal of Applied Crystallography
(Journal of Applied Crystallography)
巻:
44
号:
2
ページ:
380-384
発行年:
2011年04月
JST資料番号:
D0631A
ISSN:
0021-8898
CODEN:
JACGAR
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)