文献
J-GLOBAL ID:201102226676001865
整理番号:11A0118248
磁気リソグラフィー:ボトムアップ工程から高スループットへ
Magnetolithography: From the Bottom-Up Route to High Throughput
著者 (2件):
BARDEA Amos
(Weizmann Inst. Sci., Rehovot, ISR)
,
NAAMAN Ron
(Weizmann Inst. Sci., Rehovot, ISR)
資料名:
Advances in Imaging and Electron Physics
(Advances in Imaging and Electron Physics)
巻:
164
ページ:
1-16,16(1)-16(8),17-27
発行年:
2010年
JST資料番号:
A0364C
ISSN:
1076-5670
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)