前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：201102226684531016
整理番号：11A1598446
TEOSガスと窒素プラズマから作製したアモルファスSi薄膜のフォトルミネッセンス特性
Photoluminescence Characteristics of Amorphous Si Film Fabricated from TEOS Gas and Nitrogen Plasma
FUNATSU Tomoki
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
KAJIYAMA Yutaka
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
KATO Isamu
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
資料名：
Advances in Applied Plasma Science
(Advances in Applied Plasma Science)
巻： 8 ページ： 173-174 発行年： 2011年09月10日
JST資料番号： L7228A CODEN： AAPSFY 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。