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文献
J-GLOBAL ID:201102227262908350   整理番号:11A0825286

Pt/CoSiOX/TiN構造をもつRRAM素子における酸化還元反応スイッチング機構

Redox Reaction Switching Mechanism in RRAM Device With Pt/CoSiOX/TiN Structure
著者 (8件):
SYU Yong-En
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
CHANG Ting-Chang
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
TSAI Tsung-Ming
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
HUNG Ya-Chi
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
CHANG Kuan-Chang
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
TSAI Ming-Jinn
(ITRI, Hsinchu, TWN)
KAO Ming-Jer
(ITRI, Hsinchu, TWN)
SZE Simon M.
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)

資料名:
IEEE Electron Device Letters  (IEEE Electron Device Letters)

巻: 32  号:ページ: 545-547  発行年: 2011年04月 
JST資料番号: B0344B  ISSN: 0741-3106  CODEN: EDLEDZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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