文献
J-GLOBAL ID:201102227262908350
整理番号:11A0825286
Pt/CoSiOX/TiN構造をもつRRAM素子における酸化還元反応スイッチング機構
Redox Reaction Switching Mechanism in RRAM Device With Pt/CoSiOX/TiN Structure
著者 (8件):
SYU Yong-En
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
,
CHANG Ting-Chang
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
,
TSAI Tsung-Ming
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
,
HUNG Ya-Chi
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
,
CHANG Kuan-Chang
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
,
TSAI Ming-Jinn
(ITRI, Hsinchu, TWN)
,
KAO Ming-Jer
(ITRI, Hsinchu, TWN)
,
SZE Simon M.
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
資料名:
IEEE Electron Device Letters
(IEEE Electron Device Letters)
巻:
32
号:
4
ページ:
545-547
発行年:
2011年04月
JST資料番号:
B0344B
ISSN:
0741-3106
CODEN:
EDLEDZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)