文献
J-GLOBAL ID:201102227575849134
整理番号:11A0472031
ケイ素の金属援助化学エッチング 総説
Metal-Assisted Chemical Etching of Silicon: A Review
著者 (6件):
HUANG Zhipeng
(Max Planck Inst. Microstructure Physics, Halle, DEU)
,
HUANG Zhipeng
(Jiangsu Univ., Zhenjiang, CHN)
,
GEYER Nadine
(Max Planck Inst. Microstructure Physics, Halle, DEU)
,
WERNER Peter
(Max Planck Inst. Microstructure Physics, Halle, DEU)
,
DE BOOR Johannes
(Max Planck Inst. Microstructure Physics, Halle, DEU)
,
GOESELE Ulrich
(Max Planck Inst. Microstructure Physics, Halle, DEU)
資料名:
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻:
23
号:
2
ページ:
285-308
発行年:
2011年01月11日
JST資料番号:
W0001A
ISSN:
0935-9648
CODEN:
ADVMEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)