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文献
J-GLOBAL ID：201102231738240873
整理番号：11A1250012
単一”スペーサ成長-スペーサエッチング”工程を用いた1xnmハーフピッチの革新的自己整合3重パターン化
Innovative Self-Aligned Triple Patterning for 1x half pitch using Single “Spacer Deposition-Spacer Etch” step
MEBARKI Bencherki
(Applied Material, CA)
,
CHEN Hao D
(Applied Material, CA)
,
CHEN Yongmei
(Applied Material, CA)
,
WANG Aunchan
(Applied Material, CA)
,
LIANG Jingmei
(Applied Material, CA)
,
SAPRE Kedar
(Applied Material, CA)
,
MANDREKAR Tushar
(Applied Material, CA)
,
CHEN Xiaolin
(Applied Material, CA)
,
XU Ping
(Applied Material, CA)
,
BLANKO Pokhui
(Applied Material, CA)
,
NGAI Christopher
(Applied Material, CA)
,
BENCHER Chris
(Applied Material, CA)
,
NAIK Mehul
(Applied Material, CA)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 7973 号： Pt.1 ページ： 79730G.1-79730G.6 発行年： 2011年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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