文献
J-GLOBAL ID:201102231991778774
整理番号:11A0474266
熱およびソフトUVナノインプリントリソグラフィ技術に基づく可変性パターン逆プロセス
A versatile pattern inversion process based on thermal and soft UV nanoimprint lithography techniques
著者 (8件):
CHEN J.
(Lab. de Photonique et de Nanostructures, CNRS, Marcoussis, FRA)
,
CATTONI A.
(Lab. de Photonique et de Nanostructures, CNRS, Marcoussis, FRA)
,
DECANINI D.
(Lab. de Photonique et de Nanostructures, CNRS, Marcoussis, FRA)
,
HAGHIRI-GOSNET A.-M.
(Lab. de Photonique et de Nanostructures, CNRS, Marcoussis, FRA)
,
CHEN J.
(Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN)
,
LIU Z.
(Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN)
,
SHI J.
(Ecole Normale Superieure de Paris, Paris, FRA)
,
CHEN Y.
(Ecole Normale Superieure de Paris, Paris, FRA)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
87
号:
5-8
ページ:
899-903
発行年:
2010年05月
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)