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文献
J-GLOBAL ID：201102231994749970
整理番号：11A0637678
低Al含量のAlxGa1-xN/GaNヘテロ構造の電気特性
Electrical properties of AlxGa1-xN/GaN heterostructures with low Al content
KOEHLER K.
(Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, DEU)
,
MUELLER S.
(Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, DEU)
,
WALTEREIT P.
(Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, DEU)
,
PLETSCHEN W.
(Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, DEU)
,
POLYAKOV V.
(Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, DEU)
,
LIM T.
(Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, DEU)
,
KIRSTE L.
(Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, DEU)
,
MENNER H. P.
(Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, DEU)
,
BRUECKNER P.
(Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, DEU)
,
AMBACHER O.
(Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, DEU)
,
BUCHHEIM C.
(Technische Universitaet Ilmenau, Inst. fuer Mikro- und Nanotechnologien, PF 100565, 98684 Ilmenau, DEU)
,
GOLDHAHN R.
(Inst. fuer Experimentelle Physik, Otto-von-Guericke-Universitaet, Universitaetsplatz 2, 39106 Magdeburg, DEU)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 109 号： 5 ページ： 053705 発行年： 2011年03月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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