文献
J-GLOBAL ID:201102233299742967
整理番号:11A1249950
EUV,Eビームと193nmリソグラフィ用無機ナノ粒子フォトレジストの開発
Development of an Inorganic Nanoparticle Photoresist for EUV, E-beam and 193nm Lithography
著者 (10件):
KRYSAK Marie
(Cornell Univ., NY)
,
TRIKERIOTIS Markos
(Cornell Univ., NY)
,
SCHWARTZ Evan
(Cornell Univ., NY)
,
LAFFERTY Neal
(Rochester Inst. Technol., NY)
,
XIE Peng
(Rochester Inst. Technol., NY)
,
SMITH Bruce
(Rochester Inst. Technol., NY)
,
ZIMMERMAN Paul
(Intel Corp., AZ)
,
MONTGOMERY Warren
(SEMATECH, NY)
,
GIANNELIS Emmanuel
(Cornell Univ., NY)
,
OBER Christopher K.
(Cornell Univ., NY)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7972
号:
Pt.1
ページ:
79721C.1-79721C.6
発行年:
2011年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)