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文献
J-GLOBAL ID：201102235928862302
整理番号：11A0172101
溶液析出したVO2膜に及ぼすTiO2緩衝層の影響:増強した耐酸化性
Effects of a TiO2 Buffer Layer on Solution-Deposited VO2 Films: Enhanced Oxidization Durability
ZHANG Zongtao
(Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci. (CAS), Shanghai, CHN)
,
ZHANG Zongtao
(Graduate Univ., Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN)
,
GAO Yanfeng
(Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci. (CAS), Shanghai, CHN)
,
KANG Litao
(Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci. (CAS), Shanghai, CHN)
,
KANG Litao
(Graduate Univ., Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN)
,
DU Jing
(Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci. (CAS), Shanghai, CHN)
,
DU Jing
(Graduate Univ., Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN)
,
LUO Hongjie
(Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci. (CAS), Shanghai, CHN)
資料名：
Journal of Physical Chemistry C
(Journal of Physical Chemistry C)
巻： 114 号： 50 ページ： 22214-22220 発行年： 2010年12月23日
JST資料番号： W1877A ISSN： 1932-7447 CODEN： JPCCCK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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