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文献
J-GLOBAL ID：201102236740431327
整理番号：11A1123562
極端紫外線及び電子ビームリソグラフィー用のポリ(スチレンアクリレート)系化学増幅レジストのラジカルカチオンの動力学
Dynamics of Radical Cation of Poly(styrene acrylate)-Based Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet and Electron Beam Lithography
TAJIMA Yasuharu
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
TAJIMA Yasuharu
(JST-CREST, Saitama, JPN)
,
OKAMOTO Kazumasa
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
OKAMOTO Kazumasa
(JST-CREST, Saitama, JPN)
,
KOZAWA Takahiro
(JST-CREST, Saitama, JPN)
,
KOZAWA Takahiro
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TAGAWA Seiichi
(JST-CREST, Saitama, JPN)
,
TAGAWA Seiichi
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
FUJIYOSHI Ryoko
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
SUMIYOSHI Takashi
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 50 号： 6,Issue 2 ページ： 06GD03.1-06GD03.3 発行年： 2011年06月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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