文献
J-GLOBAL ID:201102237327780808
整理番号:11A1249781
半導体素子のナノインプリントリソグラフィーと将来のパターニング革新
Nanoimprint Lithography for Semiconductor Devices and Future Patterning Innovation
著者 (3件):
HIGASHIKI Tatsuhiko
(TOSHIBA Corp., Yokohama City, JPN)
,
NAGASUGI Tetsuro
(TOSHIBA Corp., Yokohama City, JPN)
,
YONEDA Ikuo
(TOSHIBA Corp., Yokohama City, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7970
ページ:
797003.1-797003.6
発行年:
2011年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)