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文献
J-GLOBAL ID:201102237649377995   整理番号:11A0908002

分子プレカーサー法により形成したp型酸化銅(I)透明薄膜の半導体特性

著者 (7件):
鈴木達也
(工学院大 工)
永井裕己
(工学院大 工)
原広樹
(工学院大 工)
望月千尋
(工学院大 工)
鷹野一郎
(工学院大 工)
本田徹
(工学院大 工)
佐藤光史
(工学院大 工)

資料名:
日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)

巻: 91st  号:ページ: 882  発行年: 2011年03月11日 
JST資料番号: S0493A  ISSN: 0285-7626  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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