文献
J-GLOBAL ID:201102239827997423
整理番号:11A0571809
選択的金属化に157nmのF2レーザーを使った石英ガラス基板上のアルミニウム薄膜の表面と界面修正
Surface and Interface Modifications of Aluminum Thin Films on Silica Glass Substrate Using 157nm F2 Laser for Selective Metallization
著者 (5件):
IWAI Kazufumi
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
,
IWAI Kazufumi
(RENIAS Co., Ltd., Hiroshima, JPN)
,
OKOSHI Masayuki
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
,
NOJIRI Hidetoshi
(RENIAS Co., Ltd., Hiroshima, JPN)
,
INOUE Narumi
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
50
号:
2
ページ:
022702.1-022702.5
発行年:
2011年02月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)