文献
J-GLOBAL ID:201102243374509730
整理番号:11A1619486
化学蒸着による絶縁基板上へのウエハスケールのグラフェン薄層の直接形成
Direct Formation of Wafer Scale Graphene Thin Layers on Insulating Substrates by Chemical Vapor Deposition
著者 (13件):
SU Ching-Yuan
(Academia Sinica, Taipei, TWN)
,
LU Ang-Yu
(Academia Sinica, Taipei, TWN)
,
LU Ang-Yu
(National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
WU Chih-Yu
(Academia Sinica, Taipei, TWN)
,
LI Yi-Te
(Chung Yuan Christian Univ., Chung-Li, TWN)
,
LIU Keng-Ku
(Academia Sinica, Taipei, TWN)
,
ZHANG Wenjing
(Academia Sinica, Taipei, TWN)
,
LIN Shi-Yen
(Academia Sinica, Taipei, TWN)
,
JUANG Zheng-Yu
(Academia Sinica, Taipei, TWN)
,
ZHONG Yuan-Liang
(Chung Yuan Christian Univ., Chung-Li, TWN)
,
CHEN Fu-Rong
(National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
LI Lain-Jong
(Academia Sinica, Taipei, TWN)
,
LI Lain-Jong
(National Chiao Tung Univ., HsinChu, TWN)
資料名:
Nano Letters
(Nano Letters)
巻:
11
号:
9
ページ:
3612-3616
発行年:
2011年09月
JST資料番号:
W1332A
ISSN:
1530-6984
CODEN:
NALEFD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)