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文献
J-GLOBAL ID：201102244492859539
整理番号：11A0306365
マスクプロセス補正(MPC)モデリングとその電子ビームマスク描画装置EBM-7000用のEUVマスクへの応用
Mask Process Correction (MPC) modeling and its application to EUV mask for Electron beam mask writer, EBM-7000
KAMIKUBO Takashi
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
OHNISHI Takayuki
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
HARA Shigehiro
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
ANZE Hirohito
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
HATTORI Yoshiaki
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
TAMAMUSHI Shuichi
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
BAI Shufeng
(Brion Technol., Inc., CA, USA)
,
WANG Jen-Shiang
(Brion Technol., Inc., CA, USA)
,
HOWELL Rafael
(Brion Technol., Inc., CA, USA)
,
CHEN George
(Brion Technol., Inc., CA, USA)
,
LI Jiangwei
(Brion Technol., Inc., CA, USA)
,
TAO Jun
(Brion Technol., Inc., CA, USA)
,
WILEY Jim
(Brion Technol., Inc., CA, USA)
,
KUROSAWA Terunobu
(Brion Technol. KK, Tokyo, JPN)
,
SAITO Yasuko
(Brion Technol. KK, Tokyo, JPN)
,
TAKIGAWA Tadahiro
(Brion Technol. KK, Tokyo, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 7823 号： Pt.2 ページ： 782331.1-782331.10 発行年： 2010年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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