文献
J-GLOBAL ID:201102244637843504
整理番号:11A1249987
22nmとそれ以降に要求される3層プロセスのパフォーマンス
Performance of tri-layer process required for 22nm and beyond
著者 (8件):
WEI Yayi
(GLOBALFOUNDRIES, NY)
,
GLODDE Martin
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY)
,
YUSUFF Hakeem
(IBM Microelectronics, NY)
,
LAWSON Margaret
(IBM Microelectronics, NY)
,
CHANG Sang Yil
(SAMSUNG Electronics Co., Ltd., NY)
,
YOON Kwang Sub
(SAMSUNG Electronics Co., Ltd., NY)
,
WU Chung-Hsi
(IBM Microelectronics, NY)
,
KELLING Mark
(GLOBALFOUNDRIES, NY)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7972
号:
Pt.2
ページ:
79722L.1-79722L.12
発行年:
2011年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)