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文献
J-GLOBAL ID:201102245942083460   整理番号:11A1250016

マンドレルに基づくパターン化:15nmノード用密度増倍方法

Mandrel Based Patterning: Density multiplication techniques for 15nm nodes
著者 (14件):
BENCHER Chris
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
DAI Huixiong
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
MIAO Liyan
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
CHEN Yyongmei
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
XU Ping
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
CHEN Yijian
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
OEMARDANI Shiany
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
SWEIS Jason
(Cadence Design Systems, Inc., CA, USA)
WIAUX Vincent
(IMEC, Leuven, BEL)
HERMANS Jan
(IMEC, Leuven, BEL)
CHANG Li-Wen
(Stanford Univ., CA, USA)
BAO Xinyu
(Stanford Univ., CA, USA)
YI He
(Stanford Univ., CA, USA)
WONG H.-S.Philip
(Stanford Univ., CA, USA)

資料名:
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

巻: 7973  号: Pt.1  ページ: 79730K.1-79730K.10  発行年: 2011年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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