文献
J-GLOBAL ID:201102245942083460
整理番号:11A1250016
マンドレルに基づくパターン化:15nmノード用密度増倍方法
Mandrel Based Patterning: Density multiplication techniques for 15nm nodes
著者 (14件):
BENCHER Chris
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
DAI Huixiong
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
MIAO Liyan
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
CHEN Yyongmei
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
XU Ping
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
CHEN Yijian
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
OEMARDANI Shiany
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
SWEIS Jason
(Cadence Design Systems, Inc., CA, USA)
,
WIAUX Vincent
(IMEC, Leuven, BEL)
,
HERMANS Jan
(IMEC, Leuven, BEL)
,
CHANG Li-Wen
(Stanford Univ., CA, USA)
,
BAO Xinyu
(Stanford Univ., CA, USA)
,
YI He
(Stanford Univ., CA, USA)
,
WONG H.-S.Philip
(Stanford Univ., CA, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7973
号:
Pt.1
ページ:
79730K.1-79730K.10
発行年:
2011年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)