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文献
J-GLOBAL ID：201102248783818355
整理番号：11A1249959
ポリ(スチレン-アクリレート)系化学増幅レジストの脱プロトン機構
Deprotonation mechanism of poly(styrene-acrylate)-based chemically amplified resist
TAJIMA Y.
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
OKAMOTO K.
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
OKAMOTO K.
(JST-CREST, Saitama, JPN)
,
KOZAWA T.
(JST-CREST, Saitama, JPN)
,
KOZAWA T.
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TAGAWA S.
(JST-CREST, Saitama, JPN)
,
TAGAWA S.
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
FUJIYOSHI R.
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
SUMIYOSHI T.
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 7972 号： Pt.2 ページ： 79721N.1-79721N.7 発行年： 2011年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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