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文献
J-GLOBAL ID：201102249006582514
整理番号：11A1286319
フォトマスク生産の非接触スピン洗浄処理装置用のHTS磁気浮上を使ったモデル装置の開発と試験
Development and Test of Model Apparatus Utilizing HTS Magnetic Levitation for Non-Contact Spinning Clean-Up Processors of Photo Mask Production
SAITO Kimiyo
(MTC Co. Ltd., Niigata, JPN)
,
FUKUI Satoshi
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
,
OGAWA Jun
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
,
OKA Tetsuo
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
,
SATO Takao
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
,
SORIMACHI Satoshi
(MTC Co. Ltd., Niigata, JPN)
,
MIYAZAKI Shinsuke
(MTC Co. Ltd., Niigata, JPN)
資料名：
IEEE Transactions on Applied Superconductivity
(IEEE Transactions on Applied Superconductivity)
巻： 21 号： 3,Pt.2 ページ： 2241-2244 発行年： 2011年06月
JST資料番号： W0177A ISSN： 1051-8223 CODEN： ITASE9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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