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文献
J-GLOBAL ID：201102250255340472
整理番号：11A0926740
H2O気体を用いた反応性スパッタリングにより作製した水和ZrO2薄膜のイオン伝導率に及ぼす熱処理の効果
Effect of Heat Treatment on Ion Conductivity of Hydrated ZrO2 Thin Films Prepared by Reactive Sputtering Using H2O Gas
LI Ning
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
ABE Yoshio
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
KAWAMURA Midori
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
SASAKI Katsutaka
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
ITOH Hidenobu
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
SUZUKI Tsutomu
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 50 号： 4,Issue 1 ページ： 045804.1-045804.5 発行年： 2011年04月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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