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J-GLOBAL ID:201102250796764801   整理番号:11A0951257

高感度Compton散乱による銅酸化物超伝導体におけるドープ正孔イメージング

Imaging Doped Holes in a Cuprate Superconductor with High-Resolution Compton Scattering
著者 (17件):
SAKURAI Y.
(Japan Synchrotron Radiation Res. Inst.(JASRI), Hyogo, JPN)
ITOU M.
(Japan Synchrotron Radiation Res. Inst.(JASRI), Hyogo, JPN)
BARBIELLINI B.
(Northeastern Univ., MA, USA)
MIJNARENDS P.E.
(Northeastern Univ., MA, USA)
MIJNARENDS P.E.
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
MARKIEWICZ R.S.
(Northeastern Univ., MA, USA)
KAPRZYK S.
(Northeastern Univ., MA, USA)
KAPRZYK S.
(Acad. Mining and Metallurgy AGH, Krakow, POL)
GILLET J.-M.
(Ecole Centrale Paris, Chatenay-Malabry, FRA)
WAKIMOTO S.
(Japan Atomic Energy Agency, Ibaraki, JPN)
FUJITA M.
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
BASAK S.
(Northeastern Univ., MA, USA)
WANG Yung Jui
(Northeastern Univ., MA, USA)
AL-SAWAI W.
(Northeastern Univ., MA, USA)
LIN H.
(Northeastern Univ., MA, USA)
BANSIL A.
(Northeastern Univ., MA, USA)
YAMADA K.
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

資料名:
Science  (Science)

巻: 332  号: 6030  ページ: 698-702  発行年: 2011年05月06日 
JST資料番号: E0078A  ISSN: 0036-8075  CODEN: SCIEA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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