文献
J-GLOBAL ID:201102250796764801
整理番号:11A0951257
高感度Compton散乱による銅酸化物超伝導体におけるドープ正孔イメージング
Imaging Doped Holes in a Cuprate Superconductor with High-Resolution Compton Scattering
著者 (17件):
SAKURAI Y.
(Japan Synchrotron Radiation Res. Inst.(JASRI), Hyogo, JPN)
,
ITOU M.
(Japan Synchrotron Radiation Res. Inst.(JASRI), Hyogo, JPN)
,
BARBIELLINI B.
(Northeastern Univ., MA, USA)
,
MIJNARENDS P.E.
(Northeastern Univ., MA, USA)
,
MIJNARENDS P.E.
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
,
MARKIEWICZ R.S.
(Northeastern Univ., MA, USA)
,
KAPRZYK S.
(Northeastern Univ., MA, USA)
,
KAPRZYK S.
(Acad. Mining and Metallurgy AGH, Krakow, POL)
,
GILLET J.-M.
(Ecole Centrale Paris, Chatenay-Malabry, FRA)
,
WAKIMOTO S.
(Japan Atomic Energy Agency, Ibaraki, JPN)
,
FUJITA M.
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
BASAK S.
(Northeastern Univ., MA, USA)
,
WANG Yung Jui
(Northeastern Univ., MA, USA)
,
AL-SAWAI W.
(Northeastern Univ., MA, USA)
,
LIN H.
(Northeastern Univ., MA, USA)
,
BANSIL A.
(Northeastern Univ., MA, USA)
,
YAMADA K.
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Science
(Science)
巻:
332
号:
6030
ページ:
698-702
発行年:
2011年05月06日
JST資料番号:
E0078A
ISSN:
0036-8075
CODEN:
SCIEA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)