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J-GLOBAL ID：201102252328895179 整理番号：11A1835385

電子磁気共鳴(ECR)プラズマのSiCキャップアニール膜への応用

Application of ECR Plasma to SiC Cap Annealing Films

著者 (5件)：

廣野滋

(エム・イー・エス・アフティ八王子工場)

田嶌哲也

(エム・イー・エス・アフティ玉野工場)

鳥居博典

(エム・イー・エス・アフティ八王子工場)

天沢敬生

(エム・イー・エス・アフティ八王子工場)

岡崎良弘

(三井造船)

資料名：

三井造船技報 (Mitsui Zosen Technical Review)

号： 204 ページ： 19-24 発行年： 2011年10月31日
JST資料番号： G0812A ISSN： 0026-6825 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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