文献
J-GLOBAL ID:201102256956440119
整理番号:11A0306346
EUVマスク用のEB検査システムEBeyeMの開発
Development of EB Inspection System EBeyeM for EUV Mask
著者 (16件):
HIRANO Takashi
(Toshiba Corp., JPN)
,
YAMAGUCHI Shinji
(Toshiba Corp., JPN)
,
NAKA Masato
(Toshiba Corp., JPN)
,
ITOH Masamitsu
(Toshiba Corp., JPN)
,
KADOWAKI Motoki
(Toshiba Corp., JPN)
,
KOIKE Tooru
(Toshiba Corp., JPN)
,
YAMAZAKI Yuuichiro
(Toshiba Corp., JPN)
,
TERAO Kenji
(Ebara Corp., JPN)
,
HATAKEYAMA Masahiro
(Ebara Corp., JPN)
,
SOBUKAWA Hiroshi
(Ebara Corp., JPN)
,
MURAKAMI Takeshi
(Ebara Corp., JPN)
,
TSUKAMOTO Kiwamu
(Ebara Corp., JPN)
,
HAYASHI Takehide
(Ebara Corp., JPN)
,
WATANABE Kenji
(Ebara Corp., JPN)
,
KIMURA Norio
(Ebara Corp., JPN)
,
HAYASHI Naoya
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7823
号:
Pt.2
ページ:
78232C.1-78232C.8
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)