文献
J-GLOBAL ID:201102258723911823
整理番号:11A1249790
サブ15nmハーフピッチの自己集合パターニング 実験室から生産への移行
Self-Assembly Patterning for sub-15nm Half-Pitch: A Transition from Lab to Fab
著者 (11件):
BENCHER Chris
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
SMITH Jeffrey
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
MIAO Liyan
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
CAI Cathy
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
CHEN Yongmei
(Applied Materials, Inc., CA, USA)
,
CHENG Joy Y.
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
SANDERS Daniel P.
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
TJIO Melia
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
TRUONG Hoa D.
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
HOLMES Steven
(IBM Albany Nanotech, NY, USA)
,
HINSBERG William D.
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7970
ページ:
79700F.1-79700F.9
発行年:
2011年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)