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文献
J-GLOBAL ID:201102260815228334   整理番号:11A1630189

InAs薄膜からの強烈なテラヘルツ放射

Intense Terahertz Radiation from InAs Thin Films
著者 (7件):
SASA Shigehiko
(Osaka Inst. of Technol., Nanomaterials Microdevices Res. Center, 5-16-1 Ohmiya Asahi-ku, 535-8585, Osaka, JPN)
UMINO Shinya
(Osaka Inst. of Technol., Nanomaterials Microdevices Res. Center, 5-16-1 Ohmiya Asahi-ku, 535-8585, Osaka, JPN)
ISHIBASHI Yutaro
(Osaka Inst. of Technol., Nanomaterials Microdevices Res. Center, 5-16-1 Ohmiya Asahi-ku, 535-8585, Osaka, JPN)
MAEMOTO Toshihiko
(Osaka Inst. of Technol., Nanomaterials Microdevices Res. Center, 5-16-1 Ohmiya Asahi-ku, 535-8585, Osaka, JPN)
INOUE Masataka
(Osaka Inst. of Technol., Nanomaterials Microdevices Res. Center, 5-16-1 Ohmiya Asahi-ku, 535-8585, Osaka, JPN)
TAKEYA Kei
(Osaka Univ., Inst. of Laser Engineering, 2-6 Yamada-oka, 565-0871, Suita, JPN)
TONOUCHI Masayoshi
(Osaka Univ., Inst. of Laser Engineering, 2-6 Yamada-oka, 565-0871, Suita, JPN)

資料名:
Journal of Infrared, Millimeter, and Terahertz Waves  (Journal of Infrared, Millimeter, and Terahertz Waves)

巻: 32  号:ページ: 646-654  発行年: 2011年05月 
JST資料番号: A0436B  ISSN: 1866-6892  資料種別: 逐次刊行物 (A)
発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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