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文献
J-GLOBAL ID：201102261480503668
整理番号：11A1249935
ネガ型トーンプロセスによるレジストポリマ分子系線端構造のメソスケールシミュレーション
Meso-scale simulation of the line-edge structure based on resist polymer molecules by negative-tone process
MORITA Hiroshi
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 7972 号： Pt.1 ページ： 79720W.1-79720W.7 発行年： 2011年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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