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文献
J-GLOBAL ID：201102265878750199
整理番号：11A1123489
低k絶縁材料としての適用のための窒化炭素薄膜の液相堆積
Liquid Phase Deposition of Carbon Nitride Films for Application as Low-k Insulating Materials
HIGASHI Mikiteru
(Tokai Univ., Kumamoto, JPN)
,
KIYOTA Hideo
(Tokai Univ., Kumamoto, JPN)
,
KUROSU Tateki
(Tokai Univ., Kanagawa, JPN)
,
CHIBA Masafumi
(Tokai Univ., Shizuoka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 50 号： 6,Issue 1 ページ： 061502.1-061502.5 発行年： 2011年06月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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