文献
J-GLOBAL ID:201102270108765450
整理番号:11A0539428
ポリスルホンでテンプレートされたリソグラフィーを使用して製造されるNiナノドットの形態と磁気特性に対するテンプレート工学の影響
Effect of template engineering on morphology and magnetic properties of Ni nanodots fabricated using polysulfone templated lithography
著者 (3件):
RAMASWAMY Shivaraman
(SRM Univ., Kancheepuram District, IND)
,
GOPALAKRISHNAN C
(SRM Univ., Kancheepuram District, IND)
,
PONNAVAIKKO M
(Bharathidasan Univ., Tamilnadu, IND)
資料名:
Physica Scripta
(Physica Scripta)
巻:
82
号:
2
ページ:
025603,1-5
発行年:
2010年08月
JST資料番号:
A0454B
ISSN:
0031-8949
CODEN:
PHSTBO
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)