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文献
J-GLOBAL ID:201102270151732868   整理番号:11A1393806

NiO抵抗ランダムアクセスメモリーにおける「伝導スポット」の観測

The Observation of “Conduction Spot” on NiO Resistance Random Access Memory
著者 (9件):
KONDO Hirofumi
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
ARITA Masashi
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
FUJII Takashi
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
KAJI Hiromichi
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
MONIWA Masahiro
(Semiconductor Technol. Academic Res. Center, Yokohama, JPN)
YAMAGUCHI Takeshi
(Semiconductor Technol. Academic Res. Center, Yokohama, JPN)
FUJIWARA Ichiro
(Semiconductor Technol. Academic Res. Center, Yokohama, JPN)
YOSHIMARU Masaki
(Semiconductor Technol. Academic Res. Center, Yokohama, JPN)
TAKAHASHI Yasuo
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 50  号: 8,Issue 1  ページ: 081101.1-081101.6  発行年: 2011年08月25日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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