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文献
J-GLOBAL ID：201102281810427034
整理番号：11A1513765
シルセスキオキサン含有ブロック共重合体による新しい自己組織化リソグラフィ材料の開発
Development of a New Series of Self-Assembling Lithographic Materials Based on Silsesquioxane-Containing Block Copolymers
早川晃鏡
(東京工大 大学院理工学研究科)
資料名：
ネットワークポリマー
(Journal of Network Polymer, Japan)
巻： 32 号： 5 ページ： 268-275 発行年： 2011年09月10日
JST資料番号： Z0934A ISSN： 1342-0577 CODEN： NPORF2 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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