文献
J-GLOBAL ID:201102283066089314
整理番号:11A1208925
Siナノシートの電子輸送性質:直接トンネリングからFowler-Nordheimトンネリングへの転移
Electron transport properties of Si nanosheets: Transition from direct tunneling to Fowler-Nordheim tunneling
著者 (6件):
IKUNO Takashi
(Toyota Central Res. and Dev. Laboratories, Inc., Nagakute, Aichi 480-1192, JPN)
,
OKAMOTO Hirotaka
(Toyota Central Res. and Dev. Laboratories, Inc., Nagakute, Aichi 480-1192, JPN)
,
SUGIYAMA Yusuke
(Toyota Central Res. and Dev. Laboratories, Inc., Nagakute, Aichi 480-1192, JPN)
,
NAKANO Hideyuki
(Toyota Central Res. and Dev. Laboratories, Inc., Nagakute, Aichi 480-1192, JPN)
,
YAMADA Fumihiko
(Toyota Technological Inst., Nagoya, Aichi 468-8511, JPN)
,
KAMIYA Itaru
(Toyota Technological Inst., Nagoya, Aichi 468-8511, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
99
号:
2
ページ:
023107
発行年:
2011年07月11日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)