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文献
J-GLOBAL ID：201102289314394771
整理番号：11A0306368
hp22nmとそれ以上のDUV光源を使用するEUVマスク検査法の研究
Study of EUV mask inspection technique using DUV light source for hp22nm and beyond
HIRANO Ryoichi
(Nuflare Technol., Inc. (NFT), Yokohama-city, JPN)
,
KIKUIRI Nobutaka
(Nuflare Technol., Inc. (NFT), Yokohama-city, JPN)
,
HASHIMOTO Hideaki
(Nuflare Technol., Inc. (NFT), Yokohama-city, JPN)
,
TAKAHARA Kenichi
(Nuflare Technol., Inc. (NFT), Yokohama-city, JPN)
,
HIRONO Masatoshi
(Nuflare Technol., Inc. (NFT), Yokohama-city, JPN)
,
SHIGEMURA Hiroyuki
(Semiconductor Leading Edge Technol., Inc. (Selete), Ibaraki-ken, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 7823 号： Pt.2 ページ： 782339.1-782339.10 発行年： 2010年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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