文献
J-GLOBAL ID:201102293539493768
整理番号:11A1327963
SiO2表面の銅汚染物の化学状態及びppmオーダのHCN水溶液によるそれらの除去
Chemical States of Copper Contaminants on SiO2 Surfaces and Their Removal by ppm-order HCN Aqueous Solutions
著者 (4件):
TAKAHASHI Masao
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
HIGASHI Yuhko
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
OZAKI Shinji
(Panasonic Corp., Osaka, JPN)
,
KOBAYASHI Hikaru
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
158
号:
8
ページ:
H825-H829
発行年:
2011年
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)