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文献
J-GLOBAL ID:201102294382096596   整理番号:11A0476768

3C-SiC(111)/AlN(0001)/Si(100)に関するグラフェンエピタキシャル成長

Epitaxial Graphene Growth on 3C-SiC(111)/AlN(0001)/Si(100)
著者 (6件):
HSIA Benjamin
(Univ. California, California, USA)
FERRALIS Nicola
(Univ. California, California, USA)
SENESKY Debbie G.
(Univ. California, California, USA)
PISANO Albert P.
(Univ. California, California, USA)
CARRARO Carlo
(Univ. California, California, USA)
MABOUDIAN Roya
(Univ. California, California, USA)

資料名:
Electrochemical and Solid-State Letters  (Electrochemical and Solid-State Letters)

巻: 14  号:ページ: K13-K15  発行年: 2011年 
JST資料番号: W1290A  ISSN: 1099-0062  CODEN: ESLEF6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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