文献
J-GLOBAL ID:201102294382096596
整理番号:11A0476768
3C-SiC(111)/AlN(0001)/Si(100)に関するグラフェンエピタキシャル成長
Epitaxial Graphene Growth on 3C-SiC(111)/AlN(0001)/Si(100)
著者 (6件):
HSIA Benjamin
(Univ. California, California, USA)
,
FERRALIS Nicola
(Univ. California, California, USA)
,
SENESKY Debbie G.
(Univ. California, California, USA)
,
PISANO Albert P.
(Univ. California, California, USA)
,
CARRARO Carlo
(Univ. California, California, USA)
,
MABOUDIAN Roya
(Univ. California, California, USA)
資料名:
Electrochemical and Solid-State Letters
(Electrochemical and Solid-State Letters)
巻:
14
号:
2
ページ:
K13-K15
発行年:
2011年
JST資料番号:
W1290A
ISSN:
1099-0062
CODEN:
ESLEF6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)