文献
J-GLOBAL ID:201102294468778320
整理番号:11A1892575
電子照射と溶媒アニーリングを用いて混合したモルフォロジーと周期をもつサブ10nmのブロック共重合体パターンの組立て
Assembly of Sub-10-nm Block Copolymer Patterns with Mixed Morphology and Period Using Electron Irradiation and Solvent Annealing
著者 (4件):
SON Jeong Gon
(Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA)
,
CHANG Jae-Byum
(Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA)
,
BERGGREN Karl K.
(Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA)
,
ROSS Caroline A.
(Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA)
資料名:
Nano Letters
(Nano Letters)
巻:
11
号:
11
ページ:
5079-5084
発行年:
2011年11月
JST資料番号:
W1332A
ISSN:
1530-6984
CODEN:
NALEFD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)