文献
J-GLOBAL ID:201102299025850322
整理番号:11A0140693
CMP(化学機械平坦化)に関連するトリブロック共重合体界面活性剤と低κ誘電体表面間の相互作用
Interaction Between Triblock Copolymer Surfactant and Low-κ Dielectric Surfaces Relevant to CMP
著者 (3件):
BUTHKER Joseph W.
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois, USA)
,
KELEHER Jason J.
(Lewis Univ., Illinois, USA)
,
GEWIRTH Andrew A.
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois, USA)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
157
号:
12
ページ:
G262-G268
発行年:
2010年
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)