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文献
J-GLOBAL ID：201202181924618177
整理番号：12A1365778
フォトレフレクタンス分光法によるSiO2/Si界面の歪みの解析
阿形眞司
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
寒川雅之
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
江利口浩二
(松下電子 半導体社)
,
藤本晶
(和歌山工高専)
,
金島岳
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
山下馨
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
奥山雅則
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
資料名：
応用物理学関係連合講演会講演予稿集
(Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 47th 号： 2 ページ： 820 発行年： 2000年03月28日
JST資料番号： Y0054A 資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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